近日，清华大学又突破了12寸晶圆减薄机，已经成功应用在芯片大生产线上，而此前清华大学教授已经在euv光源方面有所突破，对于未来突破EUV光刻机可能也有重大影响。
根据消息，清华大学路新春教授领衔与华海清科一起，共同研发出来的第一台12寸晶圆减薄机（Versatile-GP300）正式出机，发往国内某集成电路龙头企业。这意味着已经成功应用到了芯片大生产线上，可以很好的替代了进口设备。
这台先进晶圆减薄机将应用于3D IC制造、先进封装等芯片制造大生产线，满足12英寸晶圆超精密减薄工艺需求。具体应用到哪个企业并没有说，但是只要应用了，那么就可以减少对国外设备的使用，这对于我国芯片产业来说意义重大，可以更好的满足芯片生产需求。
而此前，清华大学唐传祥教授团队联合国外研究团队在国际权威杂志《自然》上发表了一篇研究论文。该研究成果首次用实验验证了新型粒子加速器光源“稳态微聚束”（SSMB）的原理。而这个就可能在未来作为EUV光刻机光源，唐传祥教授表示“SSMB光源的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源。”这个成果意味着未来EUV光刻机光源有可能会更快的取得突破。
综上所述，清华大学不愧是清华，刚刚又突破了12英寸晶圆减薄机，而此前对于euv光源也有突破，未来清华大学有可能在芯片领域做出更大的成就。
